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内部デザイン比較:iPhone X VS Galaxy Note 8

Kyon 2017年12月07日 11時49分

現在、スマートフォン市場の急速な発展とともに、外観だけでスマートフォンの性能が高いかどうかを既に判断できなくなりました。従って、スマートフォンの内部デザインから同スマホの性能を判断することは一番有効な方法です。

では、今年の最強のフラッグシップ機となるiPhone XとGalaxy Note 8には、どれのほうが強いですか。

近日、Apple正規サービスプロバイダのGeekBarはiPhone XとGalaxy Note 8の内部構造図を披露しました。この図から見ると、この2つのスマホは大きな差があります。iPhone Xの内部デザインには、各部品やポートが整然に並んでいて、回路基板も外に露出しません。しかし、Galaxy Note 8のマザーボード、コンデンサ、ポートと各部品はすべて見えます。

内部デザイン比較:iPhone X VS Galaxy Note 8

写真元:ithome

iPhone XはSLPスタック式マザーボードのデザインを採用し、2つのバッテリーを無いようしたため、集積度が相当に高いです。また、Apple自社の独特な内部デザインの規則に加えて、iPhone Xの内部構造はGalaxy Note 8より更に優れています。

ただし、今回の内部デザイン比較では、2つのスマホの分解方向が違っています。iPhone Xは正面から分解し、Galaxy Note 8は背面から分解したのです。従って、上記の図には、それぞれiPhone X正面のマザーボードとGalaxy Note 8背面のマザーボードを表示しました。

内部デザイン比較:iPhone X VS Galaxy Note 8

写真元:ithome

Source:ithome

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